История продукции по данным ФСА
Документы показывают, с какой продукцией компания была связана как изготовитель или заявитель. Они подтверждают историю регистрации, но не наличие товара, свободных мощностей или качество продукции.
Чаще всего в документах встречаются направления: оборудование и аппаратура, исключительно или в основном используемые для производства полупроводниковых слитков или пластин, полупроводниковых устройств, электронных интегральных микросхем или плоскопанельных дисплеев, оборудование стартовое для аппаратов летательных, устройства тормозные палубные или аналогичные; оборудование балансировки шин; оборудование специального назначения, не включенное в другие группировки, оборудование и установки для фильтрования или очистки газов, не включенные в другие группировки, инструменты, приборы и машины для измерения или контроля, не включенные в другие группировки.
28
всего релевантных документов
28
со статусом «Действует»
2022–2026
наблюдаемый период регистраций
4
направления продукции
Направления продукции
Количество показывает, в скольких документах обнаружено направление. Одна декларация может относиться сразу к нескольким направлениям.
Документы
Найдено: 28
КЛАСТЕР ИНДИВИДУАЛЬНОЙ ЖИДКОСТНОЙ ХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПЛАСТИН — КЛАСТЕР ИНДИВИДУАЛЬНОЙ ЖИДКОСТНОЙ ХИМИЧЕСКОЙ ОБРАБОТКИ ПЛАСТИН ЩЦМ 1.240.ХХХ
ЕАЭС N RU Д-RU.РА02.В.93339/26
Зарегистрирована
1 апреля 2026 г.
Срок действия
26 марта 2031 г.
Робот-манипулятор — Робот-манипулятор РМ130-330-1 ЩЦМ 3.889.043
ЕАЭС N RU Д-RU.РА01.В.64260/26
Зарегистрирована
13 февраля 2026 г.
Срок действия
5 февраля 2031 г.
Робот-манипулятор
ЕАЭС N RU Д-RU.РА01.В.73583/26
Зарегистрирована
13 февраля 2026 г.
Срок действия
9 февраля 2031 г.
Установки индивидуальной отмывки пластин — Установки индивидуальной отмывки пластин ЩЦМ 3.190.141
ЕАЭС N RU Д-RU.РА11.В.21804/25
Зарегистрирована
3 декабря 2025 г.
Срок действия
2 декабря 2030 г.
Установки индивидуальной отмывки пластин — Установки индивидуальной отмывки пластин ЩЦМ 3.190.141
ЕАЭС N RU Д-RU.РА11.В.22269/25
Зарегистрирована
3 декабря 2025 г.
Срок действия
2 декабря 2030 г.
Автоматическая установка формирования фоторезистивных масок на шаблонные заготовки УНФ-153А
ЕАЭС N RU Д-RU.РА06.В.53714/25
Зарегистрирована
12 августа 2025 г.
Срок действия
29 июля 2030 г.
Автоматическая установка сушки и задубливания — Автоматическая установка сушки и задубливания УСЗФ-153А
ЕАЭС N RU Д-RU.РА06.В.99111/25
Зарегистрирована
12 августа 2025 г.
Срок действия
11 августа 2030 г.
Установка индивидуальной химической обработки пластин методом полива/поверхностного спрея ЩЦМ 3.249.072
ЕАЭС N RU Д-RU.РА05.В.43998/25
Зарегистрирована
30 июня 2025 г.
Срок действия
25 июня 2030 г.
Оборудование технологическое — Установка индивидуальной сушки пластин ЩЦМ 3.029.051
ЕАЭС N RU Д-RU.РА05.В.44115/25
Зарегистрирована
30 июня 2025 г.
Срок действия
25 июня 2030 г.
Линия проявления фоторезиста — Линия проявления фоторезиста ЛПФА-150
ЕАЭС N RU Д-RU.РА04.В.57459/25
Зарегистрирована
28 мая 2025 г.
Срок действия
21 мая 2030 г.
Линия нанесения фоторезиста — Линия нанесения фоторезиста ЛНФ-150
ЕАЭС N RU Д-RU.РА04.В.57499/25
Зарегистрирована
28 мая 2025 г.
Срок действия
21 мая 2030 г.
Линия проявления фоторезиста ЛПФА-150
ЕАЭС N RU Д-RU.РА04.В.62431/25
Зарегистрирована
27 мая 2025 г.
Срок действия
25 мая 2030 г.
Линия нанесения фоторезиста ЛНФ-150
ЕАЭС N RU Д-RU.РА04.В.62498/25
Зарегистрирована
27 мая 2025 г.
Срок действия
25 мая 2030 г.
Оборудование химическое: Автоматическая установка химической обработки шаблонных подложек УХО-153А
ЕАЭС N RU Д-RU.РА04.В.62865/25
Зарегистрирована
27 мая 2025 г.
Срок действия
25 мая 2030 г.
Установка односторонней гидромеханической и мегазвуковой очистки пластин — Установка односторонней гидромеханической и мегазвуковой очистки пластин УОП-150-1
ЕАЭС N RU Д-RU.РА03.В.61788/25
Зарегистрирована
21 апреля 2025 г.
Срок действия
13 апреля 2030 г.
Полуавтомат плазмохимического удаления фоторезиста — Полуавтомат плазмохимического удаления фоторезиста «ПЛАЗМА-150 МТ»
ЕАЭС N RU Д-RU.РА03.В.68674/25
Зарегистрирована
21 апреля 2025 г.
Срок действия
15 апреля 2030 г.
Камеры проходные — Камеры проходные для проведения статического и функционального контроля интегральных микросистем ПКВ-1 ПКВ-2 ПКВ-3 ПКВ-5 и их модификации
ЕАЭС N RU Д-RU.РА02.В.04334/25
Зарегистрирована
18 февраля 2025 г.
Срок действия
17 февраля 2030 г.
Оборудование химическое — Установка индивидуальной химической обработки пластин методом погружения/объемного спрея
ЕАЭС N RU Д-RU.РА10.В.97413/24
Зарегистрирована
29 ноября 2024 г.
Срок действия
27 ноября 2029 г.
Установка химической обработки пластин: КАРО ПАС (Линии химической обработки пластин (ЛАДА-М 2.6.100х2)) ЩЦМ 3.240.633 ТУ.
ЕАЭС N RU Д-RU.РА07.В.15701/24
Зарегистрирована
16 августа 2024 г.
Срок действия
14 августа 2027 г.
Установка проявления фоторезиста ПФ -150 П. Допускается наименование Полуавтоматическая установка проявления фоторезистра ПФ -150 П
ЕАЭС N RU Д-RU.РА09.В.18447/23
Зарегистрирована
2 ноября 2023 г.
Срок действия
26 октября 2026 г.
Следующий шаг
Вернитесь в профиль АО Научно-Исследовательский Институт Полупроводникового Машиностроения, чтобы посмотреть контакты и уточнить текущие возможности, минимальную партию и сроки.